英特爾準備接收第二套艾司摩爾 High NA EUV設備

艾司摩爾(ASML)的最新的高階晶片生產工具:高數值孔徑極紫外光(High-NA EUV)微影設備。 路透

英特爾(Intel)正準備接收第二套來自艾司摩爾(ASML)的最新高階晶片生產機器:高數值孔徑極紫外光(High-NA EUV)微影設備。這套先進設備價格高達3.5億歐元(3.83億美元)。

路透5日報導,英特爾執行長基辛格其實是在上週四財報視訊說明會時,就提到上述進度。但上週四美股盤後英特爾發佈財報時,強調必須節約開支,隨着公告要大裁員、暫停發放股利,公司股價在當時就隨即崩了20%,第二天正常交易收盤更重挫26%。投資人忙着狂拋英特爾股票之時,沒人注意到基辛格這段談話。

英特爾去年12月開始收到第一臺艾司摩爾出貨的High-NA EUV微影設備,因爲機器龐大需要花多個月才能組裝完成,一切就緒後,便能夠製造新一代、更強大的電腦晶片。

根據財報說明會文字紀錄,基辛格在財報說明會上說,「第二套High-NA工具將進到我們奧勒岡州廠區」,公司的科技投資,「正在展現良好的早期跡象」。

艾司摩爾高階主管上月17日曾表示,公司開始出貨第二套High-NA設備給客戶,未說客戶是誰。High-NA順利導入市場對艾司摩爾的未來發展也非常關鍵,但購買的客戶究竟何時纔會真的啓用,仍有不確定性。

目前艾司摩爾拿到的十多張High-NA設備的訂單,客戶包括臺積電、英特爾、三星電子、SK海力士、美光等市場領導大廠。英特爾計劃2027年之前利用High-NA微影技術量產。臺積電今年將接收一套,但沒有表明何時用於生產。

艾司摩爾公司(ASML)執行長富凱上月提到DRAM記憶晶片製造廠,可能在2025年或2026年使用High-NA設備。DRAM記憶晶片製造廠指的是三星、SK海力士、美光。