維普半導體：光刻機配套IRIS機臺交付國內某光刻機客戶

維普半導體今日官微消息，7月1日，維普光刻機配套IRIS顆粒檢測產品累計第5套順利發機，交付國內某光刻機客戶。IRIS模塊-即集成掩模檢測系統，是光刻機中的一個重要組成部分。其主要作用是對掩模版玻璃面、保護膜面顆粒進行檢測，消除因顆粒污染導致光刻後批量Wafer的失效，從而保障半導體晶圓製造的準確性和穩定性。

本文源自：金融界AI電報