力保半導體業 中國籲荷蘭「公平」輸出EUV光刻機
爲在美國科技封鎖的背景下，力保本土半導體產業，大陸商務部官員於16日舉行的中荷經貿混委會會議中，提出願在服務貿易、電子商務等領域擴大和荷蘭的合作，希望荷方在華爲5G、EUV光刻機等問題上秉持公平立場。
光刻機係指所謂的極紫外光（EUV）微影設備，在大陸稱爲「極紫外光刻機」，在半導體業、晶片生產過程扮演關鍵性角色，在7奈米及5奈米、3奈米更先進的製程技術中所使用的光刻機，目前全球只有荷蘭大廠艾司摩爾（ASML）有能力生產。
▲大陸中芯國際力求製程技術突破，急需從荷蘭進口先進的光刻機。（圖／CFP）
目前，大陸中芯國際宣稱完成7奈米的技術開發，計劃明年4月初步量產，力求突破美方的技術封鎖，因此荷蘭政府是否批准，向中國大陸出口更先進的EUV(極紫外光刻機)設備，尤其關鍵。
16日下午，大陸商務部副部長、國際貿易談判副代表俞建華與荷蘭外交部外貿與發展合作大臣卡格，以視訊方式共同主持召開中荷經貿混委會第17次會議。
俞建華表示，當前中國正在加快構建以國內大循環爲主體、國內國際雙循環相互促進的新發展格局，這將給中荷、中歐合作帶來新機遇。他說，歡迎荷蘭企業擴大對華貿易投資，中荷雙方應繼續堅持多邊主義，積極推進全球貿易投資自由化便利化。
他進一步強調，中方願在服務貿易、電子商務等領域擴大合作，同時希望荷方在華爲5G、EUV光刻機等問題上秉持公平立場。
據大陸商務部訊息，卡格迴應，荷方重視中方市場，願與中方一道加強多邊領域合作，希望擴大服務貿易和電子商務領域務實合作，同時探討應對氣變、可持續發展等領域的合作機遇；另一方面，中荷雙方同意支持兩國企業籌建企業家委員會機制，並在明年初舉辦首屆中荷線上企業經貿交流會。
針對光刻機議題，美國政府在2018到2019年之間，就曾以「安全威脅」爲由，阻撓ASML向大陸企業出售EUV，因爲EUV被認爲是軍民兩用的雙重用途產品；對此，中國駐荷大使徐宏於今年初接受《金融日報》專訪時表示，這不是一個簡單的技術性問題，這牽涉到荷蘭政府今後的政策取向問題，「我們（中國大陸）對這一點很關注。」
►時間對我們來說完全沒用！