解決晶片光刻機「卡脖子」難題 北京清大SSMB最新研究出爐
▲光刻機的製造在大陸發展晶片事業中，扮演關鍵角色。（圖／翻攝騰訊新聞）
北京清華大學工程物理系教授唐傳祥研究組與國外合作團隊昨（25）日在《自然》（Nature）上發表《穩態微聚束原理的實驗演示》的研究論文，完成一種新型粒子加速器光源「穩態微聚束」（SSMB）的首個原理驗證實驗。唐傳祥認爲，基於SSMB的EUV光源，將有望解決自主研發晶片光刻機中最核心的「卡脖子」難題。
▲北京清大團隊研究的「穩態微聚束」，將是解決大陸製造光刻機「卡脖子」問題。（圖／視覺中國）
《北京青年報》報導，在晶片製造的產業鏈中，光刻機是必不可少的精密設備，是集成電路晶片製造中最複雜和關鍵的工藝步驟。光刻機的曝光分辨率與波長直接相關，半個多世紀以來，光刻機光源的波長不斷縮小，晶片業界公認的新一代主流光刻技術是採用波長爲13.5奈米光源的EUV（極紫外光源）光刻。
▲大陸最好的光刻機爲上海公司生產的90奈米光刻機。（圖／視覺中國）
荷蘭ASML公司是目前世界上唯一的EUV光刻機供應商，每臺EUV光刻機售價超過1億美元。不過，大陸受限於《瓦聖納協定》，ASML至今沒有發出EUV光刻機出口的許可證，至於中階光刻機出口大陸也有附加條款，禁止給大陸自主CPU代工，以至於目前大陸最好的光刻機，僅爲上海生產的90奈米光刻機。
唐傳祥認爲，EUV光刻機的自主研發仍有很長的路要走，但基於SSMB的EUV光源，有望解決自主研發光刻機中最核心的「卡脖子」難題，「這需要持續科技攻關，也需要上下游產業鏈的配合，才能獲得真正成功。」