由英特爾搶下 ASML最新EUV有多神？一臺要靠13個貨櫃運送

ASML在社羣媒體中貼出首臺Ｈigh-NA EUV交貨至英特爾，設備大小跟貨櫃相去不遠。圖／翻攝自ASML社羣平臺X

艾司摩爾（ASML）已開始將第一臺最新半導體先進製程設備「高數值孔徑極紫外光」（High-NA EUV）系統出貨給英特爾，將用於英特爾的18A半導體制程。這款EUV曝光機造價昂貴，據信每臺要價約3億美元至4億美元。

根據資訊科技網站Tom's Hardware報導，正如ASML在9月所宣佈，該公司本週開始把高數值孔徑EUV微影設備運送給英特爾。這款機臺是從ASML荷蘭總部所在地的費爾德霍芬，運到英特爾在美國奧勒岡州D1X廠，並且要在接下來幾個月內在當地進行安裝。

這款高數值孔徑EUV體積龐大，組裝後比一輛卡車還大，要靠250個獨立貨箱運送，其中包括13個大型貨櫃。至於價格方面，根據ODDO BHF分析師團隊上個月在報告中估計，ASML這套最先進製程設備，一套的價格大約2.5億歐元（2.75億美元）。它的第二代，生產力將會再提高，價格預料會超過3.5億歐元。另據Tom's Hardware的報導，據信，每一臺高數值孔徑EUV曝光機的價格介於3億美元至4億美元。

ASML這次出貨給英特爾的機臺，是英特爾在2018年採購的試驗款Twinscan EXE:5000設備。英特爾將用它來加強學習如何使用高數值孔徑EUV機器投入其18A製程技術，以便在2025年部署商業等級Twinscan EXE:5200機臺進行量產前獲得寶貴經驗。英特爾希望能夠透過18A製程超車臺積電與三星電子的技術。

這款最新的EUV微影設備，預計將讓數值孔徑從0.33提高至0.55，讓解析度從13奈米提升至8奈米，預料將對打造2奈米與更先進的製程技術發揮關鍵作用。這類技術必須採用低數值孔徑雙圖案化，或者使用高數值孔徑單圖案來完成。

Tom's Hardware的報導指出，由於高數值孔徑EUV與低數值孔徑EUV之間存在許多差異，需要進行大量的基礎設施調整，現在英特爾能比競爭同業搶先幾季部署這款設備，有利於取得巨大優勢。一方面，英特爾將有大量時間可調整後18A的製程技術

需要對基礎設施進行大量更改，因此領先競爭對手幾個季度部署Twinscan EXE對英特爾來說可能是一個巨大的優勢。一方面，英特爾將有充足的時間來調整其後18A製程技術。另一方面，英特爾將自行調整高數值孔徑機臺，比對手搶先一步。