ASML高規EUV出貨臺積電

荷蘭晶片製造設備商艾司摩爾（ASML）表示，今年將首次出貨高數值孔徑極紫外光（High-NA EUV）微影設備給臺積電（2330）。

Jefferies分析師預計，臺積電將在2028年生產A14製程的晶片時，採用這項技術。

彭博資訊報導，艾司摩爾表示，該公司財務長達森（Roger Dassen）在近期的電話會議上告訴分析師，臺積電和英特爾這兩家大客戶，將在今年底前取得High-NA EUV機臺。

英特爾先前就已經訂購，並在去年12月底獲得第一臺High-NA EUV設備，運到該公司位於奧勒岡州的工廠，並已完成組裝。

目前不確定臺積電何時會收到。一名臺積電代表說，正與供應商密切合作，拒絕進一步置評。