被科技封鎖...短期內難自製EUV ASML：大陸晶片技術落後美國10年

艾司摩爾（ASML）執行長富凱（Christophe Fouquet）指出，目前大陸的晶片製造技術落後美國10年，且短期內無法自主研製極紫外曝光機（EUV）。圖／路透

美國持續實施對大陸的科技封鎖，讓大陸難以取得先進的晶片技術，儘管大陸政府積極推動半導體產業的發展，然而艾司摩爾（ASML）執行長富凱（Christophe Fouquet）指出，目前大陸的晶片製造技術落後美國10年，且短期內無法自主研製極紫外曝光機（EUV）。

但他提到，全球市場對於大陸生產的成熟製程晶片仍有極大的需求，將有助於填補歐洲的供需缺口。

德國商報「Handelsblatt」報導，富凱表示，世界依賴大陸生產的「傳統晶片」。他認爲，若要進一步對大陸實施限制，必須先制定半導體生產計劃，否則將難以彌補現有供應鏈的產能缺口。

至於先進晶片技術，儘管此前有報導指出大陸晶圓大廠中芯國際已成功開發出5奈米制程，但富凱直言，大陸仍然落後美國10年。同時，由於EUV曝光機的研發過程極其複雜，大陸在短期內仍無法自主製造這一關鍵設備。

大陸在成熟製程晶片領域具有優勢地位。根據半導體業界組織SEMI估計，大陸晶片製造商的產能將於 2025年達到每月1,010萬片，約佔全球總產量的三分一。