ASML觀察大陸晶片製造 落後先進技術10至15年

荷蘭曝光機巨頭ASML的CEO富凱觀察，大陸半導體企業與行業領頭羊如臺積電等相比，仍然存在10至15年的技術差距。（shutterstock）

全球半導體產業格局中，技術一直是推動行業發展的關鍵因素。荷蘭製作曝光機巨頭ASML的CEO克里斯多夫‧富凱（Christophe Fouquet）對全球晶片製造技術的差距最新發表看法，引發業界廣泛關注。他指出，儘管中國一些企業在半導體領域取得顯著進步，但與行業領頭羊如Intel、臺積電和三星相比，仍然存在10至15年的技術差距。

根據觀察者網報導，這一觀點不僅揭示了全球晶片製造技術的分佈現狀，也反映了中國在全球半導體產業鏈面臨的挑戰。在ASML看來，在無法獲取先進極紫外曝光機（EUV）的情形下，即便運用一流的深紫外曝光機（DUV）設備，在工藝技術層面也難以企及臺積電等廠商的高度。

這主要因爲半導體制造工藝的精進是一個長期且複雜的過程，先進曝光機機作爲關鍵生產工具，對晶片製程的提升起着至關重要的作用，技術優勢難以通過其他手段輕易彌補。