臺積電據悉年底前從ASML接收首批高NA EUV光刻機
臺積電將於今年年底前從荷蘭光刻機制造商阿斯麥（ASML）接收首批最新的高數值孔徑極紫外（高NA EUV）光刻機。這批機器每臺成本約爲3.5億美元，將用於生產下一代半導體。（日經新聞）
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