聯手英特爾開發12奈米平臺 聯電早盤下挫逾3％

聯電（2303）、英特爾（Intel）昨（25）日共同宣佈，雙方將合作開發12奈米制程平臺，以因應行動、通訊基礎建設和網路等市場的快速成長。不過，消息釋出後，聯電今（26）日股價卻出現獲利賣壓潮，早盤開低走低，盤中跌逾3%，一度來到50.0元，創下近三個交易日以來低點。

聯電今日股價開盤後，股價隨即下挫逾2％，且目前跌幅已經超過3％，在獲利賣壓潮情況下，聯電盤中股價降至近三個交易日以來低點。觀察三大法人昨日進出狀況，聯電昨日在外資大幅買超8萬5,904張情況下，帶動三大法人共買超9萬3,442張。

聯電錶示，這項長期合作結合英特爾位於美國的大規模製造產能，和聯電在成熟製程上豐富的晶圓代工經驗，以擴充製程組合，同時提供更佳的區域多元且具韌性的供應鏈，協助全球客戶做出更好的採購決策。

英特爾資深副總裁暨晶圓代工服務（IFS）總經理 Stuart Pann 表示，幾十年來，臺灣一直是亞洲和全球半導體及廣泛的技術生態系的重要成員，英特爾致力於與聯電這樣的臺灣創新企業合作，爲全球客戶提供更好的服務。英特爾與聯電的策略合作進一步展現了爲全球半導體供應鏈提供技術和製造創新的承諾，也是實現英特爾在2030年成爲全球第二大晶圓代工廠的重要一步。

聯電共同總經理王石表示，聯電與英特爾進行在美國製造的12 奈米 FinFET 製程合作，是本公司追求具成本效益的產能擴張，和技術節點升級策略的重要一環。這項合作將協助客戶順利升級到此關鍵技術節點，同時受惠於擴展位於北美市場產能帶來的供應鏈韌性。

新的製程將在英特爾位於美國亞利桑那州 Ocotillo Technology Fabrication 的12、22和32廠進行開發和製造，透過運用晶圓廠的現有設備將可大幅降低前期投資，並最佳化利用率，預計在2027年投入生產。