打破美、日壟斷 陸建成首條ArF光刻膠產線

在美中科技戰背景下，大陸因無法取得先進的光刻機而使得半導體的發展受到極大限制，不過，近日寧波南大光電材料公司建成大陸首條ArF光刻膠生產線，在半導體領域取得重要進展。

光刻膠（photoresist）又稱光阻劑、光致抗蝕劑，是光刻工藝中的關鍵材料，主要應用於積體電路和半導體分立器件的細微圖形加工，被業界視爲半導體技術壁壘最高的材料之一。光刻膠又被稱爲「半導體工業的血液」，其對半導體產業的重要性可見一斑。

新浪財經報導，寧波市經信局日前宣佈，南大光電材料公司建成大陸首條ArF光刻膠生產線，並生產一些樣本送交客戶測試。該條生產線所生產的ArF光刻膠，可應用於製造90奈米制程至14奈米制程的晶片。

報導指出，這條生產線完全投產後，估計每年可創造人民幣10億元的銷售額。最重要的是，該產線對於打破日本和美國在光刻膠領域的長期壟斷，具有一定的意義。

寧波南大光電指出，「ArF光刻膠開發和產業化項目」尚處於光刻膠樣品驗證階段，還未形成量產。驗證過程預計至少需要12至18個月。ArF光刻膠除了工藝要求高，還存在穩定量產週期長、風險大等特點，此外，能否取得下游客戶的訂單並大規模進入市場，仍存在不確定因素。

報導指出，在全球光刻膠市場上，由日本合成橡膠（JSR）、信越化學、住友、東京應化、美國陶氏等大廠所壟斷，上述公司全球市佔率約90％。