34億一臺！臺積電購買最先進光刻機，劍指1nm芯片！

34億一臺的芯片光刻機超級怪獸要來了！

據悉，全球第三臺High-NA EUV光刻機即將落地臺積電工廠，後者開始爲生產1納米芯片做準備。

一旦能達成量產，又要大幅拉大和我們差距了!

臺積電購買光刻機

衆所皆知，阿斯麥作爲全球光刻機巨頭，尤其在EUV光刻機領域，更是獨領風騷。

如果說，光刻機是人類半導體工業皇冠上的明珠，那麼阿斯麥就相當於握着最亮明珠的那個廠商。

此前阿斯麥對外公佈了最新的產品，也就是High-NA EUV光刻機。

據瞭解，這臺光刻機重達150噸，組裝起來比卡車還大，需要被分裝在 250 個單獨的板條箱中進行運輸，其中包括 13 個大型集裝箱。

相較之前版本的光刻機，High-NA EUV最大的優勢在於增大了數值孔徑，由之前的0.33提升到了0.55。

所謂數值孔徑，指的是用來衡量光學系統能夠收集光的角度範圍的參數。

簡單來說，這個數值越大，光學系統的分辨率也就越小，從而能製造出更先進製程的芯片。

同時，又能大幅降低多重曝光帶來的成本，生產效率和良品率也變得更高。

舉個例子哈，之前可能每小時才能生產150片晶圓，但現在可以提高到300片，非常的誇張。

據瞭解，這臺光刻機目前支持2nm量產，到2029年可以支持1nm的量產。

如果採用多重曝光，未來5埃米（也就是0.5nm）製程的量產，也是沒問題的。

雖然有許多人預測摩爾定律即將終結，但High-NA EUV的推出再次延續了這一規律，爲芯片行業提供了更長遠的創新動力。

這麼好的東西，對於全球晶圓代工龍頭的臺積電來說，當然想要，而且多多益善。

據臺媒《經濟日報》報道，全球第三臺High-NA EUV光刻機即將落地臺積電工廠。

雖然前兩臺都賣給了英特爾，但後者買了也是浪費，因爲後續還是要找臺積電代工。

衆所皆知，臺積電可是阿斯麥的超級VIP大客戶，擁有80多臺EUV光刻機，佔據阿斯麥出貨所有EUV數量的一半以上。

相關數據顯示，在全球前十大晶圓代工營收排名中，臺積電一家獨佔市場份額超六成。

特別是在7nm及以下的製程，更是獨領風騷。

爲了保持行業領先地位，臺積電每年都是投入巨資進行研發。

據悉，從7nm到5nm、再到3nm的轉換，臺積電前前後後至少花費了300億美元，約合人民幣2000多億。

對於半導體產業來說，2nm製程技術的實現將開啓一個新的時代。

未來隨着人工智能、物聯網、自動駕駛、量子計算等領域的迅速發展，先進芯片將成爲各行各業的核心競爭力。

誰能在最短時間內掌握最前沿的光刻技術，誰就有可能取得更大的市場優勢。

而此次引入High-NA EUV光刻機，標誌着臺積電爲未來2nm甚至1nm製程打下了堅實基礎，無疑是繼續保持領先地位的關鍵一環。

值得一提的是，此前臺積電嫌棄High-NA EUV光刻機價格太貴了，信誓旦旦的表示就用之前的標準EUV光刻機就行。

對臺積電來說，任何大規模技術升級都會影響整體資本支出，特別是在短期內它們可能不會顯著提高生產收益的情況下。

之前還有分析師預測，臺積電可能要到 2030 年甚至更晚纔會採用這項技術。

但是後來臺積電還是慫了，不得不重新評估自己的策略，估計是看到英特爾買了兩臺回家，心裡心癢癢的。

近幾年，英特爾宣佈了“IDM 2.0”戰略，旨在通過新技術佈局，重奪先進製程的領先地位，於是最先進的光刻設備，便變得關鍵中的關鍵。

特別是這次，英特爾竟然一口氣購買了兩臺High-NA EUV光刻機。

英特爾這些舉動無疑就是向臺積電炫耀，如果臺積電不緊跟潮流，很可能在精度、速度和生產效率上被英特爾迎頭趕上。

所以，對於臺積電而言，即使價格再貴，也要買。

結尾

但臺積電購買的這臺High NA EUV光刻機，還不算是阿斯麥的壓軸菜。

據說，更厲害的Hyper-NA EUV光刻機，正在加緊研發，數值孔徑將進一步的提高。

根據阿斯麥的預估，最快將在2030年推出，可支持2埃米量產，也就是0.2nm。

根據資料顯示，ASML標準數值孔徑的EUV光刻機（NXE系列）目前售價約爲1.83億美元，而High NA EUV光刻機（EXE:5000）的售價約爲3.8億美元。

而未來的Hyper NA光刻機，價格恐超過7.6億美元。

不過，還是那句話，一分錢一分貨嘛，相信屆時又會出現神仙打架的情景咯。