售價4億美元的光刻機，英特爾又買了一臺
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來源：內容來自半導體行業觀察（ID：icbank）綜合，謝謝。
根據該公司 8 月 1 日財報電話會議記錄，英特爾首席執行官帕特·基辛格 (Pat Gelsinger) 表示，該公司將斥資 3.5 億歐元（3.83 億美元）購買新的“Hihg NA”EUV 工具。
英特爾於 12 月份開始接收第一臺大型機器，這些機器需要數月時間才能安裝完成，預計將爲新一代更強大的計算機芯片提供支持。
基辛格在電話會議上表示：“第二臺 High NA 工具即將進入我們位於俄勒岡州的工廠”，並補充說，該公司的技術投資“顯示出良好的早期指標”。
在因擔心英特爾扭虧爲盈前景而導致其股價大幅下滑之際，此番言論並未引發關注。
作爲計算機芯片製造商最大的設備供應商，ASML 拒絕對具體客戶採購情況發表評論。
ASML 的高管於 7 月 17 日表示，該公司已開始向一位未透露姓名的客戶出貨第二臺高數值孔徑光刻機，今年將只實現第一臺、可能還有第二臺光刻機的收入。
成功引入高數值孔徑是 ASML 作爲歐洲最大科技公司未來發展的關鍵，但對於客戶何時會採用它仍存在一些疑問。
英特爾計劃到 2027 年將該技術用於商業生產。爲 Nvidia 和 Apple 生產芯片的臺積電今年將收到一套工具，但尚未透露何時將其用於生產。
ASML 首席執行官 Christophe Fouquet 7 月 17 日表示，DRAM 內存芯片製造商（即三星、SK 海力士或美光）可能會在 2025 年或 2026 年開始使用High NA。
曝光機大廠ASML 於imec 的ITF World 2024 宣佈，首款High-NA EUV 曝光機創造晶圓製造速度紀錄，比兩個月前紀錄更快。
ASML 前總裁兼技術長Martin van den Brink 說，新High-NA EUV 晶圓生產速度達每小時400~500 片，比標準EUV 的200 片快2~2.5 倍。ASML 已在開發Hyper-NA EUV，擴展High-NA EUV 共享潛在藍圖。透過High-NA EUV 加速，不但提升產能還降低成本。
經進一步調整，ASML 已用實驗機列印生產8 納米線寬，是EUV 的新紀錄，打破4 月紀錄。當時ASML 荷蘭總部與imec 聯合實驗室的實驗版High-NA EUV 列印10 納米線寬。就發展路徑看來，ASML 標準EUV 可列印13.5 納米線寬，新High-NA EUV 可列印8 納米線寬，ASML 證明可滿足基本規格。
Martin van den Brink 強調，ASML 取得進展，整個列印線寬作業至8 納米紀錄並校正，還有一定程度重疊覆蓋。ASML 對High NA EUV 充滿信心，能再突破極限。除了ASML 自己測試High NA EUV，擁有High NA EUV 的英特爾也在美國俄勒岡州D1X 廠測試，預定以Intel 18A 製程研發與訓練，之後量產Intel 14A 製程。
韓媒傳出，英特爾已包下荷商(ASML新型High-NA EUV(高數值孔徑極紫外光)微影設備直到明(2025)年上半爲止的多數供應量。
TheElec 8日引述未具名消息人士報導，ASML今年準備製造5臺High-NA EUV微影設備。由於這種設備每年只能生產約5~6臺，代表第一批將全數出貨給英特爾。
英特爾競爭對手三星電子(Samsung Electronics)、SK海力士(SK Hynix)預料要等到明年下半才能取得上述設備。
對想要打造2納米芯片的業者來說，High-NA EUV微影設備不可或缺。
臺積電甫於4月24日宣佈，全新的「A16」製程將於後(2026)年下半年投產，且這項製程並不需用到ASML的High-NA EUV微影設備。
臺積電高層當時在加州聖塔克拉拉(Santa Clara)舉行的會議表示，AI芯片製造商很可能是第一批採納A16的客戶、而非智能手機制造商。臺積電重要客戶包括英偉達、蘋果(Apple Inc.)。
據路透報導，最新發表的技術讓分析師開始質疑，英特爾能否真如2月宣稱的那樣，可用旗下「14A」製程取代臺積電，打造全世界運算速度最快的芯片。TechInsights副董事長Dan Hutcheson表示，英特爾的說法有爭議，“在某些面向，我不認爲他們已經領先對手。”
ASML 今年將向臺積電交付新一代光刻機
據彭博社之前報道，ASML 年將向臺灣半導體制造公司運送其最新的芯片製造機。
據公司發言人 Monique Mols 稱，ASML 首席財務官 Roger Dassen 在最近的一次電話會議上告訴分析師，ASML 最大的兩個客戶臺積電和英特爾公司將在今年年底前獲得所謂的高 NA 極紫外機器。
ASML 的新機器可以在半導體上刻印僅 8 納米厚的線條——比上一代小 1.7 倍——並將用於生產爲人工智能應用和先進消費電子產品提供動力的芯片。
臺積電對機器的價格表示擔憂。臺積電高級副總裁Kevin Zhang 5 月在阿姆斯特丹表示：“我喜歡高 NA EUV 的功能，但我不喜歡標價。” 他說，臺積電所謂的 A16 節點技術將於 2026 年底推出，不需要使用 ASML 的High NA EUV 機器，可以繼續依賴臺積電較舊的極紫外設備。
儘管如此，臺積電一直是 ASML 高 NA EUV 項目的積極參與者。包括 Janardan Menon 在內的 Jefferies 分析師表示，他們預計臺積電將在 2028 年的 A14 節點上使用高 NA。分析師在與 Dassen 的電話會議後表示，ASML 仍然認爲 2025 年的收入可能處於指導範圍的上半部分。
Jefferies 分析師表示，ASML 今年剩餘三個季度的平均訂單量可能約爲 57 億歐元，從而將 2025 年的銷售額推高至 400 億歐元。
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