天嶽先進取得去除碳化硅表面殘留的清潔劑及其應用和清潔方法專利，有效提升碳化硅產品產能

金融界2024年7月19日消息，天眼查知識產權信息顯示，山東天嶽先進科技股份有限公司取得一項名爲“一種去除碳化硅表面殘留的清潔劑及其應用和清潔方法“，授權公告號CN202410388925.1，申請日期爲2024年4月。

專利摘要顯示，本發明涉及碳化硅表面清洗技術領域，具體涉及一種去除碳化硅表面殘留的清潔劑及其應用和清潔方法。清潔劑包括第一成分、pH調節劑和水；以佔清潔劑質量的百分比計，第一成分包括6%~8%的3‑甲氧基‑3‑甲基丁醇、8%~10%的異構醇醚、10%~12%的表面活性劑和4%~6%的分散劑；pH調節劑含量爲調節清潔劑的pH值爲9~10的所需量；餘量爲水。本發明提供的去除碳化硅表面殘留的清潔劑及清潔方法能夠有效去除碳化硅產品表面因拋光處理附着的磨料、拋光蠟等髒污，提升碳化硅產品良率，刷洗時間由200秒/片縮短至120秒/片，有效提升產能。

本文源自：金融界

作者：情報員