深圳森豐申請改善干涉色正側色差的PVD膜層製備方法專利，改善貨品正側色差

金融界2024年11月5日消息，國家知識產權局信息顯示，深圳森豐真空鍍膜有限公司申請一項名爲“一種改善干涉色正側色差的PVD膜層製備方法”的專利，公開號CN 118895484 A，申請日期爲2024年8月。

專利摘要顯示，本發明公開了一種改善干涉色正側色差的PVD膜層製備方法，屬於PVD鍍膜領域。包括步驟：S1：基底材料放入鍍膜室中，進行加熱及抽真空；S2：通入氬氣，開啓偏壓電源，進行弧光清洗；S3：開啓外置磁場電源，開啓兩對Cr靶，沉積純Cr層；S4：開啓兩對Si靶，通入N2，沉積CrSiN層；S5：通入氣體C2H2，沉積CrSiCN層；S6：關閉一對Cr靶和一對Si靶，調整Cr靶和Si靶的電流，沉積干涉膜層的CrSiCN層；S7：關閉Cr，Si靶，開啓另一對Cr靶，關閉氣體N2，沉積干涉膜層CrC層；S8：關閉Cr靶，開啓Si靶，沉積干涉膜層SiC層，結束鍍膜。通過將靶材與貨品的設置適當的距離，並同時附加外置磁場，改變爐內粒子運行軌跡，使得繞鍍到貨品側面的粒子增多，從而改善貨品正面和側面的色差。

本文源自：金融界

作者：情報員