美國擬斥資 8.25 億美元支持紐約州 EUV 光刻旗艦研發站點建設

IT之家 11 月 1 日消息，據美國商務部當地時間昨日新聞稿，該部門與美國《CHIPS》法案美國國家半導體技術中心 NSTC 項目運營商 Natcast 宣佈在紐約州立大學奧爾巴尼納米技術中心建設首個《CHIPS》法案旗艦研發站點。

該站點名爲“EUV 加速器”，重點推進最先進的 EUV 光刻技術以及依賴於該技術的研發工作，預計將獲得 8.25 億美元（IT之家備註：當前約 58.75 億元人民幣）的美國聯邦投資支持。

“EUV 加速器”站點將於 2025 年開始運營，預計同年引入 0.33NA EUV 光刻機、2026 年引入 High NA EUV 光刻機。這一站點將召集並促進與產業界、學術界和政府合作伙伴的合作，支持提供、培養和發展有才華的員工隊伍的計劃，推動半導體推進技術創新。

除這一 EUV 光刻站點外，美國還計劃建設原型製造和先進封裝製造領域的研發設施。