捷佳偉創申請真空鍍膜機及調試方法專利，有效提高了鍍膜的精度和效率

金融界2024年6月28日消息，天眼查知識產權信息顯示，深圳市捷佳偉創新能源裝備股份有限公司申請一項名爲“真空鍍膜機及調試方法”，公開號CN202410427530.8，申請日期爲2024年4月。

專利摘要顯示，本發明公開了真空鍍膜機及調試方法，其中真空鍍膜機包括：鍍膜室、等離子體發生組件、至少兩組光檢測探頭、光譜儀和控制器，鍍膜室設有待鍍膜位和沿第一方向的鍍膜輸送線，鍍膜輸送線經過待鍍膜位，以輸送基片經過待鍍膜位，並鍍膜至基片的表面；等離子體發生組件連通於鍍膜室，設有沿第二方向朝向於待鍍膜位的等離子體流道，等離子體流道於待鍍膜位形成沿第三方向的鍍膜區；沿第三方向間隔分佈的至少兩組光檢測探頭，光檢測探頭用於檢測等離子體流道內的等離子體發出的混合輝光；光譜儀光連接於光檢測探頭，用於根據混合輝光獲得光譜數據；控制器電連接於光譜儀，用於接收並處理光譜數據，並得到等離子體組成比例。

本文源自：金融界

作者：情報員