擠下蘋果成第一 ASML變摩爾定律救星 陷陸美晶片爭霸

設備大廠艾司摩爾。（圖／Shutterstock）

2021未來品牌指數（Future Brand Index 2021）百大品牌排名，由獨家供應極紫外光(EUV)微影設備、荷蘭半導體設備商艾司摩爾(ASML)奪下冠軍，擠下美國智慧機龍頭蘋果，全球晶圓代工龍頭臺積電則是大幅躍進，登上第6。

未來品牌指數（Future Brand Index）與財富500等排名不同，評估的不是財務指標，而是由會計師事務所普華永道（PwC）選出的全球100家公司爲基礎，邀請3000名專家以啓發、創新、獨立性、公司領導、員工素質等18個不同面向的評分進行排名。

ASML提供深紫外光(DUV)微影設備等曝光機，以及獨家供應的極紫外光(EUV)微影設備，更成爲包括臺積電、三星電子在先進製程發展的重要設備，這也使得ASML成爲半導體公司想要跨入先進製程發展的關鍵地位，近期頻頻被外媒點名。

據金融時報先前報導，雖然ASML在商業上獲得優異成績，但就如許多半導體廠商一般，都陷入陸美科技戰的爭端，對全球半導體供應鏈來說都造成不小影響。ASML 供應商約有 5000 家，每個動作都對於該公司供應鏈有相關影響，其中超過75%的設備與服務銷售銷往亞洲，主要是臺灣、南韓和大陸，但在美國政府對大陸半導體發展打擊之下，讓ASML的地位相當尷尬。

中芯國際2018年跟ASML訂購EUV機臺，在2019年遭到川普政府出手阻撓，導致中芯國際無法取得EUV機臺。當時ASML迴應，是爲了遵守《瓦聖納協議》，須等待荷蘭政府審覈出口許可，才能出貨中芯國際。不過，中芯國際今年3月重新跟ASML簽約，12億美元的訂單，主要用來採購深紫外光(DUV)微影設備，期限到今年底，但至今仍未有下文，主要是拜登政府延續川普政策，甚至大力限縮半導體生產設備與材料輸入大陸。雖然大陸半導體自主化持續推進，許多半導體生產設備與材料供應商也有意打入中芯供應鏈，但目前來說，仍沒有太多供應商有辦法滿足中芯的需求，顯見ASML設備在半導體的關鍵地位。

ASML執行長Peter Wennink曾警告，美國加強對大陸的限制，不只陸會面臨損失，同時也會影響美國經濟，直言大陸擁有最大的半導體市場，若美國持續限制廠商出口，等待大陸完成半導體產業鏈自給自足，很多外國公司都會因此被排除在外，美國經濟勢必會受到波及。

晶圓代工廠跨入先進製程領域後，摩爾定律是否能維持，成爲業界關注焦點，但ASML的EUV機臺成爲摩爾定律救星，臺積電先是採用深紫外光(DUV)微影設備的193nm浸潤式ArF微影，讓臺積電第一代7奈米制程出世，並採用EUV技術持續推進電晶體微縮，臺積電也藉此拉開與競爭對手三星電子的差距。

在進入20奈米制程後，各家廠商採用鰭式場效電晶體(FinFET)，是種多重閘道 3D 電晶體，控制電流通過的閘門從平面走向類似魚鰭的3D電晶體，並由閘極(所稱的20奈米制程，指得就是閘極長度，或稱線寬)所包覆，大大強化控制電流。但隨着電晶體微縮持續推進，如今稱數字製程更接近的是鰭片寬度，也因如此，三星電子率先在3奈米制程採用環繞閘極技術（Gate-All-AroundGAA）；至於近期宣佈重返晶圓代工領域的英特爾，也將擴大采用EUV技術，ASML所提供的EUV機臺更說是功不可沒。

先進製程持續朝着3奈米、2奈米、1.5奈米，甚至是小於1奈米制程，ASML合作研發新一代高解析度EUV曝光技術（High NA EUV），目前已經完成設備的基本設計，型號爲NXE5000系列，預計2022年達到商用化，這一套半導體生產設備預料也會變得非常巨大。

ASML技術開發副總裁 Tony Yen日前受訪也指出，由於2000年沒有日本廠商願意做EUV微影設備的研發與生產，主要是系統非常複雜，且當時無法確認EUV技術應用，所以ASML很早期就投入，並與蔡司（ZEISS）合作，以及收購美國聖地亞哥 Cymer，協助EUV技術重大進展。

至於摩爾定律是否面臨瓶頸，Tony Yen表示沒有，甚至認爲摩爾定律還會再延續 10 年甚至更長，目前電晶體微縮的課題，還有3D封裝的解決方案，但 2D架構微縮，仍可以持續10年，ASML也爲此持續開發下一代半導體生產設備。