不怕臺積電爆量下跌 7奈米大功臣全球賺 盤前股價大漲5％

全球光刻機龍頭荷商艾司摩爾（ASML）。（圖/達志影像/shutterstock）

美國半導體巨頭英特爾新任執行長Pat Gelsinger宣佈，7奈米制程下半年完成設計，預計2023年問世，並打算在亞利桑那州投入200億美元設立2座晶圓廠。這份內容也提到，英特爾7奈米制程將採用極紫外光(EUV)微影技術生產線，預料全球獨家供應EUV機臺的荷商艾司摩爾(ASML)有望繼續成爲贏家。

臺積電24日股價受到英特爾宣言衝擊，當日收盤股價下跌18元或3.03%、收在576元，來到近2個多月來的新低，成交總數逾10.7萬張，外資賣超超過6萬張。盤中零股交易量達698萬6392股，刷新1月22日因股價創新高後所創下的671萬股紀錄，成交金額40.57億元。

半導體設備大廠荷蘭商ASML獨家供應的EUV曝光設備，爲臺積電、南韓科技大廠三星電子在追求先進製程不可或缺的設備，先前甚至傳出大陸晶圓代工龍頭中芯國際也想向ASML訂貨，卻遭美國政府施壓不準荷蘭政府覈准通過ASML出貨中芯的申請文件，這也導致中芯國際想要轉爲採購深紫外光(DUV)曝光設備。

日前該公司與中芯國際約12億美元採購合約，也遭到美國國會議員點名，要求施壓ASML不能出貨中芯國際，顯見該公司在先進製程生產的重要地位。

根據Pat Gelsinger所提，7 奈米制程的研發問題在於一系列程序瓶頸，造成製程延遲，英特爾將更仰賴EUV曝光設備來重新設計這一系列步驟，有助於簡化設計流程。

對此，ASML在美股24日盤前大漲超過5%，ASML在歐股同樣上漲超過5%，無論是否英特爾重提自研7奈米制程決心、盤前大漲近5%，還是臺積電ADR股價受到衝擊而下跌近2%，半導體生產設備大廠仍是最大贏家。