艾司摩爾看旺今年半導體 法人按贊EUV概念股

微影設備大廠艾司摩爾（ASML）21日公告第一季財報及第二季展望優於預期，今年業績預估將較去年成長30％。ASML執行長Peter Wennink指出，與3個月前相較，邏輯IC及記憶體需求均大幅提升，市場對於極紫外光（EUV）等微影設備需求強勁，ASML預估明年EUV機臺出貨量將提升至55臺。法人看好包括家登（3680）、帆宣（6196）、公準（3178）、意德士（7556）等EUV概念股今年營運表現。

ASML公告第一季合併營收達43.64億歐元，毛利率季增1.9個百分點達53.9％，稅後淨利13.31億歐元，每股淨利3.21歐元，財報表現優於市場預期。第一季新接訂單金額達47.40億歐元，其中EUV機臺設備金額達22.94億歐元。ASML預估第二季營收介於40～41億歐元，毛利率達49％，由於邏輯及記憶體相關微影設備需求強勁成長，預期全年營收將成長30％優於預期。

Peter Wennink表示，現在全球晶片都呈現缺貨狀況，興建新廠緩不濟急，最有效率解決缺貨問題的最佳方法是提升現有設備生產力。由於數位轉型持續加速，5G、人工智慧（AI）、高效能運算（HPC）等需求強勁增加，與3個月前相較，邏輯及記憶體設備需求全面提升，ASML今年邏輯相關營收年成長率由先前預估的10％提升至30％，記憶體相關營收年成長率則由先前預估的20％大幅提升至50％，ASML今年營收年成長率可望由先前預估的二位數提升到30％。

ASML預期今年EUV設備出貨介於45～50臺，而隨着邏輯及DRAM製程推進，晶圓EUV光罩層數提升，下半年將推出新一代EUV設備NXE：3600D，明年預估出貨量達55臺且全數都是新一代設備，新設備可協助客戶的每天晶圓曝光量提升15～20％。

以今年各半導體大廠的投資支出來看，EUV產能建置扮演重要驅動力，臺積電提升資本支出至300億美元，用於建置5奈米及3奈米EUV產能，三星在晶圓代工及記憶體同步擴充EUV生產線，英特爾也展開7奈米EUV產能建置。法人看好EUV Pod供應商家登、EUV機臺次系統模組代工廠帆宣、EUV曝光機精密零件供應商公準及意德士等EUV概念股今年接單逐季看旺，訂單能見度直達年底。